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가드(Guard) 제품 설명
가드는 화학적 오염을 방지하기 위한 제품입니다. 주로 반도체, 디스플레이, 이차전지 등 반도체 제조 공정에서 사용됩니다. 가드는 공정 중 발생하는 화학물질이 공정 장비나 부품에 흡착되거나 침투하는 것을 막아주는 역할을 합니다.
가드는 크게 두 가지 종류로 나눌 수 있습니다. 하나는 공정 중 발생하는 화학물질을 물리적으로 차단하는 물리적 가드입니다. 또 다른 하나는 화학물질과 화학적으로 반응하여 결합하여 화학물질의 침투를 막는 화학적 가드입니다.
물리적 가드는 주로 금속, 플라스틱, 유리 등과 같은 물질로 만들어집니다. 공정 중 발생하는 화학물질이 이러한 물질에 흡착되거나 침투하지 못하도록 막아줍니다. 물리적 가드는 비교적 저렴하고 제조가 용이하다는 장점이 있습니다. 하지만 화학물질의 종류에 따라 부적합할 수 있다는 단점이 있습니다.
화학적 가드는 화학물질과 화학적으로 반응하여 결합하여 화학물질의 침투를 막습니다. 화학적 가드는 물리적 가드에 비해 화학물질의 종류에 구애받지 않고 사용이 가능합니다. 하지만 제조가 복잡하고 비용이 많이 든다는 단점이 있습니다.
가드의 장점
- 화학적 오염을 방지하여 공정 장비와 부품의 수명을 연장하고 품질을 향상시킵니다.
- 공정 중 발생하는 화학물질의 누출을 방지하여 작업자의 안전을 확보합니다.
- 공정 환경을 개선하여 친환경적인 생산을 가능하게 합니다.
가드의 단점
- 제조 공정과 부품의 종류에 따라 적합한 가드를 선택해야 합니다.
- 가드의 종류에 따라 가격이 크게 달라질 수 있습니다.
가드의 적용 사례
가드는 반도체 제조 공정의 다양한 공정에 적용됩니다. 대표적인 적용 사례로는 다음과 같은 것들이 있습니다.
- 식각 공정: 식각 공정에서 발생하는 산성 용액이 공정 장비와 부품에 흡착되거나 침투하는 것을 막기 위해 가드를 사용합니다.
- 증착 공정: 증착 공정에서 발생하는 유기 용매가 공정 장비와 부품에 흡착되거나 침투하는 것을 막기 위해 가드를 사용합니다.
- 세정 공정: 세정 공정에서 발생하는 산성 용액이 공정 장비와 부품에 흡착되거나 침투하는 것을 막기 위해 가드를 사용합니다.
가드는 반도체 제조 공정의 필수적인 제품으로, 반도체 제조 공정의 안정성과 품질 향상에 기여하고 있습니다.